提出钝化膜理论的专业人士认为，金属在化学抛光液中的溶解(腐蚀)可作为电化学过程来看，由于金属表面各部分的物理和电化学性质的不均一性，使得金属表面上有许多电位不相同的部分，即金属表面存在着微观凸凹不平和或多或少的其他元素和杂质，使金属表面发生局部电位的高低不平，电位正的部分会发生还原反应，电位负的部分发生氧化反应，即形成了瞬时闭合原电池，产生腐蚀电流，当腐蚀电流密度达到相当高时，就有可能在金属表面上形成钝化膜，这种由腐蚀到钝化的过程与电抛光时的电流原电位曲线十分相似(见图，曲线的段为腐蚀过程，月兑段为钝化膜的形成过程，月段为在已形成的钝化膜内发生的抛光过程，在钝化膜内微观凸起部，由于反应活性高而被***先溶解，此一过程反复进行即可得到光亮的金属表面。
国内专业人士曾发现在化学抛光时，被抛光的金属表面上有肉眼看不到的氧化物形成，而且抛光时阳极的温度和电位都会急剧上升，抛光面的耐蚀性比未抛光的面有所提高。这些均表明抛光时抛光面的确易形成固相的钝化膜。
方景礼等开发的黄铜在混合液中的两步抛光法，**步先在高浓度低浓度的溶液中进行氧化处理，使黄铜表面形成一层棕色氧化膜，然后在低浓度液中退去氧化膜，即可获得十分光亮的抛光表面。黄铜在**步溶液中氧化的时间越长，氧化膜的颜色越深，氧化膜的厚度越厚，所得抛光面的光亮度越高。这表明，铜在遭受氧化处理时会形成氧化物型固体膜或钝化膜，此时金属的溶解是在紧密的氧化膜内进行的，使表面的各个部分均发生微观整平，这种表面的微观整平的***终结果，就使金属表面变得光亮。
