事实证明，抛光是获得超光滑表面的重要加工方法，而抛光的进行主要借助于抛光液来完成，而抛光液的PH值对抛光效果有很大影响，当抛光液的PH值过小时，溶液呈酸性状态，一般抛光效果不太明显；而当溶液的PH值过大时，溶液呈碱性状态，腐蚀的效果往往比酸性效果***。

    抛光液的化学抛光过程其实就是溶液对抛光元件表层的化学腐蚀作用，主要成分是二氧化硅，占整个比例的百分之七十，其余成分为碱金属氧化物，当抛光液为中性时，主要的化学作用表现为2InSb+6[O]→In2O3+Sb2O3，表面的抛光效果似乎不太明显。

    当抛光液的PH值为9.6时，抛光液的机械作用远大于化学作用，去除速率比较大，导致抛光后抛光片表面产生高损伤层，粗糙度比较大；当抛光液的pH值增大为10.84～11.34时，机械作用和化学作用达到一种对等状态时，此时化学作用的均匀性***，使得表面张力小，质量处理的一致性***，可以得到良***的表面抛光效果；当pH值大于11.67时，SiO2水溶胶在强碱的作用下，生成易溶于水的硅酸氨，使得硅溶胶中的SiO2颗粒不能起到磨削作用，变成透明的液体，此时机械作用基本失效，抛光以化学作用为主，表面蚀坑增多，使得表面粗糙度重新增加。

    抛光液PH值是抛光元件表面粗糙度的重要影响因素，他是抛光元件化学抛光的重要组成部分。事实证明，当抛光压力、温度等外界因素相匹配时，抛光时的***佳PH值应控制在11.25左右，这时候化学抛光和机械抛光的作用相平衡，抛光效果***佳！